鉄鋼非鉄金属石油・素材電子材料自動車部品ファインケミカル繊維ガラス・セラミックス紙・パルプ電力・発電塗料・印刷化粧品医療・医薬食品畜産農業バイオ全般環境材料・母材を選ばず高品質な成膜が可能なミストCVDパワーデバイス事業で用いるGa2O3の成膜を含め、コア技術となっているのが、ミストCVDと呼ばれるプロセス技術で、液中の反応原料を、超音波などでミスト化し、その後ガス化して加熱した母材に吹き付けることで材料を成膜、さらには結晶化させる技術で、大きく二つの特徴があります。まず、低温、非真空とマイルドなプロセスが可能です。バッチ処理ではなくロールtoロールが可能など、産業応用に向けて有利な点が多く存在しています。また、酸化物に限らず、金属や有機・高分子など幅広い材料が成膜可能です。注目の新技術・新展開コア技術と事業概要強豪ひしめくパワーデバイス市場を酸化ガリウム(Ga2O3)で狙う巨大なパワーデバイス市場を支えているシリコンに代わる材料として、シリコンカーバイド(SiC)、窒化ガリウム（GaN）などが知られています。FLOSFIAではGa2O3という、さらに物性の優れた、京都大学発の新材料の開発に取り組んでいます。市場で嘱望されている低損失かつ低コストなパワーデバイスを実現し、社会問題である電力変換時の損失を大幅に低減することを目指しています。世界最小のオン抵抗を有するショットキーバリアダイオード(SBD)の試作に成功し、量産体制への移行を進めています。：：：：：創立資本金本社生産拠点Web2011年1,458,691,940円（資本準備金等含む）（2017年4月6日現在）京都府京都市京大桂ベンチャープラザhttp://flosfia.com/図1試作したSBDの従来技術との比較従来型と比べて約9割程度オン抵抗を低減図2ミストCVDの基本的な原理液中の原料成分が、超音波でミスト状となり、ガス化したのち加熱した母材上で成膜・結晶化させるプロセス＞＞＞川下川中川上最終製品機能性材料誘導品基礎製品業界の位置づけ取引の多い業界分野京都大学で開発されたミストCVDの技術をベースに開発・事業化を進め、2011年に設立。事業ドメインをパワーデバイスと成膜ソリューション事業にすえる。京都市ベンチャー企業目利き委員会Aランク認定。その他、様々な技術賞を受賞し、2014年に商号を株式会社FLOSFIAに変更。企業情報京都グリーンケミカル・ネットワーク参画企業株式会社FLOSFIAお問い合わせ京都市産業観光局新産業振興室〒604-8571京都市中京区寺町通御池上る上本能寺前町488番地電話075-222-3324FAX075-222-3331ミストCVDで社会の多様な課題を技術的に解決